設備・拠点

AGCファインケミカルズにおいて化成品・電子材料・農薬原体・中間体の製造を担う、AGC若狭化学、AGCセイミケミカルの製造設備をご紹介します。

製造設備

AGC若狭化学

製造設備

100Lの少量スケールから15,000Lの大型スケールまで、幅広い容量の反応容器を保有しています。材質はグラスライニング（GL）やステンレス（SUS）をはじめハステロイまで、お客様の製品仕様に合わせて最適な設備をご提案します。
温度は超低温（-40℃）から高温（250℃）まで幅広く制御でき、高圧条件下での反応にも対応可能です。さらに、強力な攪拌（かくはん）能力により、高粘度・高粘着性の物質も問題なく取り扱えます。また、反応後の工程で必要となる遠心分離機、ろ過器、各種乾燥機（減圧、凍結、スプレードライヤー）といった分離・乾燥設備も充実しており、高品質な製品づくりをサポートします。

設備名	基数	容量	材質	温度
反応槽	64基	2,000〜15,000L	ステンレス、グラスライニング、ハステロイ、その他	-45〜250℃
連続蒸留塔	1基	なし	ステンレス	常温〜170℃
蒸留塔	11基	1,000L〜15,000L	ステンレス、グラスライニング、ハステロイ	常温〜280℃
薄膜蒸留塔	1基	1,500L	ステンレス	常温〜195℃
遠心ろ過機	22基	36〜60インチ	ハステロイ、ステンレス、レジン	ー
ろ過乾燥機	4基	300〜2,700L	ステンレス	ー
真空乾燥機	13基	300L〜5,000L	ステンレス、グラスライニング、ハステロイ	常温〜280℃

試作設備

各種条件に対応可能な試作設備を取り揃えております。

設備名	基数	容量	材質	温度
反応槽	4基	200〜300L	ステンレス、グラスライニング、ハステロイ	-50〜160℃
遠心ろ過機	1基	33インチ	ステンレス	ー
乾燥機	1基	50L	ステンレス	ー

ユーティリティ

• クーリングタワー
• 冷媒（-10〜-40℃）
• スチーム
• 熱媒（280℃）
• N2発生装置

AGCセイミケミカル（多目的製造設備のみを掲載）

製造・パイロット設備

20Lから3,600Lの小規模反応容器を数多く取り揃え、少量・高付加価値案件のキロラボ〜パイロット〜商用生産まで柔軟に対応できます。

グラスライニング（GL）やステンレス（SUS）、ハステロイなど多様な材質の反応器とオートクレーブ、蒸留、クロマト等の後処理設備を備え、ご要望に応じた製造条件に対応可能です。NMR、GC、HPLC、ICP-MSなど高度分析機器も充実しています。

加えて半導体材料や先端電子材料などの高品質製品の製造ニーズにも対応できるよう、製造スケールや製品特性に応じて、超純水の使用や、クラス1,000〜100,000のクリーンルームを使用することも可能です。

設備名	基数	容量	材質	温度
反応槽	4基	〜200L	グラスライニング、ステンレス、ハステロイ	室温〜120℃※
反応槽	17基	300〜3,600L	グラスライニング、ステンレス、ハステロイ	室温〜120℃※
オートクレーブ反応槽	1基	ー	ステンレス	室温〜60℃※
蒸留塔	1基	500L	グラスライニング	室温〜180℃
遠心分離機	2基	Φ24B、36B	ステンレス	室温
加圧濾過機	3基	Φ550〜900	ステンレス、ステンレス(PFA、PTFE)	室温
クロマト管*	2基	Φ300	ステンレス	室温〜60℃

※温度条件は要相談

試作設備

キロラボ設備

設備名	基数	容量	材質	温度
反応器	複数	〜20L	ガラス、ハステロイ	-70℃〜80℃
オートクレーブ	3基	1〜3L	ハイパーグラス、ステンレス	室温〜150℃
コンデンサ	複数	ー	ガラス	ー
エバポレーター	複数	〜10L	ガラス	室温〜80℃
蒸留セット	1	ー	ガラス（理論段数5、10）	ー
ヌッチェフィルター	複数	〜Φ300	磁製、ステンレス	ー
加圧ろ過機	2	1〜3L	ステンレス	室温〜80℃
カラム	複数	〜Φ100	ガラス	ー

ユーティリティ

• 井水
• チラー（5〜25℃）
• スチーム
• N2発生装置
• 超純水製造装置

その他

• クリーンルーム
• 危険物倉庫
• 危険物冷凍倉庫

分析機器

AGC若狭化学

HPLC、GC、LC-MS、ICP-MS、NMR、XRD、SEMなど多彩な分析装置を備え、プロセス解析や不純物管理を徹底。

• HPLC（UV・PDA・RI・FL）
• GC（FID・TCD）
• 質量分析装置（GC-MS、LC-MS）
• NMR KF 水分計
• イオンクロマトグラフ
• 電位差自動滴定装置
• ICP-MS・マイクロ波分解装置
• 原子吸光光度計
• FT-IR
• 旋光計
• 示差走査熱量計（DSC）
• 全有機体炭素計（TOC）
• 粒度分布計
• パウダーフローテスター
• SEM
• 分光色差計
• X線回折装置（XRD）

AGCセイミケミカル

• HPLC
• GC（FID、TCD）
• GPC
• 質量分析装置（GC-TOF MS、LC-MS）
• イオンクロマトグラフ
• NMR
• FT-IR
• UV-Vis
• 原子吸光光度計
• ICP-AES
• ICP-MS
• X線回折装置（XRD）
• 蛍光X線分析装置（XRF）
• 熱重量分析装置（TGA/TF-DTA）
• 熱機械分析装置（TMA）
• 示差走査熱量計（DSC）

その他の分析機器を見る（26件）

• pHメーター
• 粘度計
• 導電率計
• 濁度計
• 屈折率計
• 測色計
• 水分測定装置（カールフィッシャー）
• 固形分測定装置
• 表面張力計（静的、動的）
• 粒度分布計
• 比表面積計
• パウダーテスター
• 走査電子顕微鏡（FE-SEM/EDX）
• 原子間力顕微鏡（AFM）
• レーザー顕微鏡
• 元素分析付マイクロスコープ
• 接触角計
• 摩擦試験機
• 光沢計
• 膜厚計
• 接触抵抗測定装置
• 絶縁抵抗測定装置
• 段差測定機
• 引張試験機
• ソルダーチェッカー
• ゲルタイムテスター

製造開発拠点一覧

AGC若狭化学（ISO9001、14001取得）

AGC若狭化学 | 上中工場

100Lから15,000Lスケールにも対応できる安定供給体制に加え、特殊な製造条件にも対応できる設備力が当工場の強みです。腐食性の高い原料や高純度が求められる製品など、一般的な設備では製造が難しい案件もハステロイ設備や多段蒸留塔、薄膜蒸留器といった特殊設備を活用し、お客様の製品化をサポートします。

住所

〒919-1552 福井県三方上中郡若狭町 若狭テクノバレー1号堤4-1Googleマップを開く

敷地面積

28,400m²

製造品目

化成品、医農薬中間体

AGC若狭化学 | 小浜工場（本社）

小規模設備ならではの小回りの利く生産体制で、世界中のお客様が求める多様なニーズに柔軟にお応えすることが可能です。

住所

〒917-0044 福井県小浜市飯盛 24-26-1Googleマップを開く

敷地面積

7,900m²

製造品目

化成品、医農薬中間体

AGC若狭化学 | 医薬品工場

医薬品原薬・中間体（有機合成）について、cGMP 管理による高品質と安定生産を実現します。各国機関による豊富な監査対応実績がございます。

住所

〒917-0044 福井県小浜市飯盛25-27-1Googleマップを開く

敷地面積

5,800m²

製造品目

医薬品原薬・中間体

AGCセイミケミカル（ISO9001、14001取得）

AGCセイミケミカル | 茅ヶ崎工場

有機・無機を問わず、特色ある技術を生かした様々な製品をお客様に提供しております。有機受託事業は、これまで培ってきた有機合成の技術を活かし、各種受託製造を請け負っております。20Lから3,600Lの小規模反応容器を数多く取り揃え、少量・高付加価値案件の試作から商用生産まで柔軟に対応できます。

住所

〒253-8585 神奈川県茅ケ崎市茅ヶ崎3丁目2番10号Googleマップを開く

敷地面積

40,226m²

製造品目

機能性モノマー、機能性材料、イオン交換膜、半導体用研磨剤、燃料電池用材料/複合酸化物材料、受託製造事業

AGC横浜テクニカルセンター

ファインケミカルの開発・受託製造で培った知見と最新の技術を融合しお客様を強力にサポートします。

住所

〒230-0045 神奈川県横浜市鶴見区末広町1丁目1Googleマップを開く

AGC千葉工場

AGC千葉工場ファインケミカル製造プラントは、高圧ガス設備を有しており、特殊なガス反応に対応可能です。工場内で製造しているAGCのケミカルチェーンを活用し高難度なフッ素反応に対応します。

住所

〒290-8566 千葉県市原市五井海岸10Googleマップを開く

製造品目

クロール・アルカリ製品、フッ素樹脂製品、医農薬中間体・原体